1. Chimie, Technique, IndustrieDépôt en phase vapeur par des processus chimiques.Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l’anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux.Les techniques de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) permettent de déposer des revêtements de diborure de zirconium ZrB2 ou de diborure de titane TiB2 à l'aide de précurseurs halogénés tels que le tétrachlorure de zirconium ZrCl4, le tétrachlorure de titane TiCl4 et le trichlorure de bore BCl3 en phase gazeuse dans l’hydrogène H2 comme réducteur.Les fibres obtenues par dépôt chimique en phase vapeur à partir d’un précurseur de carbone tel que le benzène ont des propriétés et des applications différentes et sont en général appelées « nanofibres de carbone ».